
2025-11-16
Недавно АО Фэйчао (Шанхай) Новые Материалы выпустило серию ультрачистых газовых фильтров Gasfil ALO линейки Feature-Tec, достигнув прорыва в ключевых технологиях для решения отраслевой проблемы фильтрации сильных окислительных газов при производстве полупроводников. В полупроводниковых процессах, особенно в передовых техпроцессах ниже 14 нм, фильтрация сильных окислительных газов, таких как фтор (F₂), сталкивается с двойной проблемой: традиционные мембранные материалы из ПТФЭ легко окисляются и повреждаются, а фильтрующие элементы из спеченного порошка, хотя и устойчивы к окислению, не могут обеспечить необходимую пропускную способность при малых размерах.
Ключевым новшеством серии Gasfil ALO является использование высокочистой пористой керамики из оксида алюминия в качестве внутреннего фильтрующего сердечника. Благодаря точному контролю пористой структуры керамики достигается сверхвысокая точность фильтрации в 1,5 нм, что позволяет эффективно улавливать микроколичества частиц и металлических примесей в газах, обеспечивая выход годных изделий в полупроводниковых процессах. Одновременно, данный фильтр разработан для широкого диапазона расходов от 30 до 3000 л/мин для различных сценариев применения, особенно подходя для технологических точек с малыми размерами и высокой пропускной способностью — например, в процессе подачи фтора, он решает как проблему низкой стойкости мембран из ПТФЭ, так и позволяет избежать ограничения пропускной способности фильтрующих элементов из спеченного порошка за счет оптимизации конструкции потоковых каналов. Кроме того, фильтр изготавливается по технологии полного чистого производственного процесса, удовлетворяя строгим требованиям полупроводниковой отрасли к выделению загрязняющих веществ. Он уже нашел применение в ключевых процессах, таких как производство кремниевых устройств, соединенных полупроводников и передовая упаковка, предоставляя локализованное ключевое решение для фильтрации высокочистых технологических газов в полупроводниковой промышленности и способствуя преодолению барьеров в цепочке поставок для высокотехнологичного полупроводникового производства.